对乙酰氧基苯乙烯

 

       对乙酰氧基苯乙烯主要用于合成聚对羟基苯乙烯，聚对羟基苯乙烯是光致抗蚀剂(光刻胶)的主要成分，是目前248nm光刻胶的主体树脂，248nm光刻胶主要应用于微电子芯片及液晶显示器领域，以波长为248nmKrF激光为加工介质,大量应用于大规模工业化光刻生产当中。

     本公司通过不断研究创新，开发出一套该产品的工业化生产工艺，已生产出合格的工业化产品，将为248nm光刻胶的国产化作出积极的推动作用。

     中文名称:对乙酰氧基苯乙烯 

     分 子 式:C10H10O2

     分 子 量:162.19

     外      观:无色透明液体，无漂浮物

     熔     点：7－8 °C(lit.)

     沸     点：260 °C(lit.)

     密     度：1.06 g/mL at 25 °C(lit.)

     折 射 率： n20/D 1.538(lit.)

     闪     点：190 °F   

  主要检测项目